摘要

涂胶显影设备是光刻工序中与光刻机配套使用的涂胶、烘烤及显影设备，包括涂胶机、喷胶机(适用于不规则表面晶圆的光刻胶涂覆)和显影机；且作为光刻工艺中的核心设备，分类方式众多。根据工艺的不同可以被分为前道和后道涂胶显影设备，前者主要用于晶圆制造的前道工艺中，而后者是在封测工艺中使用。 2020年中国（包含中国台湾地区）涂胶显影设备市场规模为8.14亿美元；预计在2023年将达到11.07亿美元，年均复合增长率达11%。涂胶显影设备行业竞争格局稳固，国外厂商高度垄断。在涂胶显影设备行业，全球范围内日本东京电子（TEL）独树一帜，处于绝对领先的优势。国产替代方面，芯源微实现小批量替代，盛美上海、众鸿电子进军市场，但总体来看仍具有较大差距。