电子特种气体，简称电子特气，是特种气体的一个重要分支。

含氟蚀刻气体被广泛用于半导体工艺，如薄膜、蚀刻、掺杂、气相沉积和扩散。蚀刻方法包括湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。由于其蚀刻方向性强、工艺控制准确、方便、无解毒、无衬底损伤和杂质，干法蚀刻越来越多地被使用。蚀刻是对基板上未被光刻胶掩模的加工表面进行蚀刻的过程，如氧化硅膜、金属膜等，以获得被光刻胶掩模的区域，从而在基板表面上获得所需的成像图案。蚀刻的基本要求是图案边缘干净，线条清晰，图案变换差异小，光刻胶膜及其掩模保护表面没有损伤和钻孔侵蚀。含氟蚀刻剂品种主要包括四氟甲烷、三氟甲烷、二氟甲烷、六氟乙烷、八氟环丁烷、六氟丁二烯等。

项目投建金额超亿元，投资回收期长达5-6年。

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