宽禁带半导体
禁带宽度在2.3 eV以上的半导体材料,其中,禁带指价电子所在能带和自由电子所在能带之间的间隙,禁带越宽表明被束缚的价电子需要更多的能量才能成为自由电子,因此具有更高的耐受高压电特性和更好的热稳定性,代表性宽禁带半导体材料有碳化硅(SiC)、氯化镓(GaN)。
宽禁带半导体材料
又被称为第三代半导体材料,指禁带宽度在2.3eV及以上的半导体材料,典型的是碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、金刚石等材料。
宽禁带半导体
禁带宽度在2.3 eV以上的半导体材料,其中,禁带指价电子所在能带和自由电子所在能带之间的间隙,禁带越宽表明被束缚的价电子需要更多的能量才能成为自由电子,因此具有更高的耐受高压电特性和更好的热稳定性,代表性宽禁带半导体材料有碳化硅(SiC)、氯化镓(GaN)。