碳化硅外延设备
碳化硅外延设备
莫
莫舒棋 · 头豹分析师
2023-12-11
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行业定义
碳化硅外延设备是半导体和光电子器件制造领域的关键组成部分，专注于设计、制造和提供用于生产碳化硅外延片的设备。这些设备在先进半导体工艺中扮演着关键角色，碳化硅外延设备通常包括反应室、气体供应系统、基底、加热系统和真空系统等组成部分。该行业的关键趋势包括对高性能、高集成度半导体器件的不断需求，以及对能效和高频应用的增长需求。
行业分类
物理气相外延是一种利用物理手段（通常是热蒸发或反应溅射）在衬底表面沉积碳化硅的技术。这种方法不涉及气相的化学反应，而是直接将源材料以物理形式输送到衬底表面。典型的物理气相外延设备包括蒸发源或溅射源、真空室、衬底旋转系统等。特点： 物理气相外延通常用于生长较薄的外延层，具有较好的晶体质量和表面平整度。这种方法还可以在相对较低的温度下实现生长。
行业特征
随着碳化硅扩产需求的增加，单片机产能受到限制，公司开始尝试使用多片机量产
发展历程
碳化硅外延设备行业
目前已达到 4个阶段
产业链分析
上游分析中游分析下游分析
行业规模
碳化硅外延设备行业规模
暂无评级报告
SIZE数据
政策梳理
碳化硅外延设备行业
相关政策 5篇
竞争格局
35.24
摘要
碳化硅外延设备是半导体和光电子器件制造领域的关键组成部分，主要用于生产碳化硅外延片。CVD法是当前最广泛应用的碳化硅外延生长技术，但仍面临着技术挑战。相较之下，分子束外延（MOCVD）作为一种新型CVD技术具有独特优势。中国碳化硅外延设备市场仍由国外厂商主导，但国产替代空间巨大。单片炉仍为中国碳化硅市场的外延设备主流产品，但随着碳化硅扩产需求的增加，单片机产能受到限制，市场正在不断探索其他提升产能的技术路线。
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