离子注入机
离子注入机
陈
陈志煌 · 共创作者
2023-10-29
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行业定义
离子注入机是四大前道晶圆制造设备之一。离子注入机与薄膜沉积设备、光刻设备、刻蚀设备同列为四大集成电路制造关键制程设备。在半导体产业中，离子注入是通过对半导体材料表面进行某种元素的离子注入掺杂，从而改变其特性的掺杂工艺制程。离子注入设备按照应用领域可划分为集成电路领域、光伏电池领域和面板领域；按照能量高低与束流大小，可进一步划分为高中低离子注入设备和高中小束流离子注入设备。目前掺杂工艺有高温热扩散法和离子注入法，离子注入机在掺杂工艺中应用占主导地位，并具备掺杂均匀性好，纯度好，低温灵活、可控精度等优点。
行业分类
注射离子剂量较多，离子束电流大于10mA，大剂量可达到25mA。离子束固定，扫描硅片。
行业特征
离子注入机国产替代趋势，驱动离子注入机研发目标
发展历程
离子注入机行业
目前已达到 5个阶段
产业链分析
上游分析中游分析下游分析
行业规模
离子注入机行业规模
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数据图表
政策梳理
离子注入机行业
相关政策 4篇
竞争格局
65.04
摘要
离子注入机是离子注入工艺的核心装备，主要用于光伏及集成电路制造中的掺杂（Doping）工艺，即将特定元素（B、P、As 等）以离子形式加速到预定能量后注入至半导体材料（Si、Ge、SiC 等）之中，并按预定方式改变材料电性能，制成包括晶体管在内的集成电路基本单元。主要由气体系统、电机系统、真空系统、控制系统、射线系统五大系统构成。
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