离子注入机是四大前道晶圆制造设备之一。离子注入机与薄膜沉积设备、光刻设备、刻蚀设备同列为四大集成电路制造关键制程设备。在半导体产业中,离子注入是通过对半导体材料表面进行某种元素的离子注入掺杂,从而改变其特性的掺杂工艺制程。离子注入设备按照应用领域可划分为集成电路领域、光伏电池领域和面板领域;按照能量高低与束流大小,可进一步划分为高中低离子注入设备和高中小束流离子注入设备。目前掺杂工艺有高温热扩散法和离子注入法,离子注入机在掺杂工艺中应用占主导地位,并具备掺杂均匀性好,纯度好,低温灵活、可控精度等优点。