光刻机（lithography）又称掩模对准曝光机，其原理类似照片冲印技术，将掩膜版上已设计完备的集成电路图形通过光线的曝光印制到感光材料（硅片），从而使感光材料具有电子线路图的作用，根据波长不同光刻机分为DUV与EUV。光刻机的制造集合了精密光学、精密仪器、高分子物理与化学、机械自动化软件、高精度环境控控制和流体力学等多项高精尖技术，因此光刻机设备生产是我国当下政策大力扶持产业，以此作为解决我国高端芯片产业被“卡脖子”的问题的重要抓手。

自动光刻机指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

高端光刻机制造技术复杂度高，光学镜头和光源设备是核心元器件

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