提示×
系统公告
panel标题
提示主题内容
关闭验证

人机验证

拖动滑块使图片为正

图片加载中...
刷新验证刷新
客服电话:400-072-5588
|
小程序|公众号|服务号
微信扫一扫 进入头豹小程序头豹小程序

投射阅读

重新获取

微信扫码 关注头豹公众号头豹公众号
微信扫码 关注头豹服务号头豹服务号
开通企业VIP,下载完整内容

企业VIP,享免费下载

尊享VIP购买,享半价优惠

申请引用
内容标题:光刻机
引用内容:
文字纠错
投诉
首页 词条目录词条详情
光刻机
申请引用

全文引用

申请引用

收藏

宋鹏
宋鹏·头豹分析师
未经平台授权,禁止转载
版权有问题?点此投诉
行业定义
光刻机(lithography)又称掩模对准曝光机,其原理类似照片冲印技术,将掩膜版上已设计完备的集成电路图形通过光线的曝光印制到感光材料(硅片),从而使感光材料具有电子线路图的作用,根据波长不同光刻机分为DUV与EUV。光刻机的制造集合了精密光学、精密仪器、高分子物理与化学、机械自动化软件、高精度环境控控制和流体力学等多项高精尖技术,因此光刻机设备生产是我国当下政策大力扶持产业,以此作为解决我国高端芯片产业被“卡脖子”的问题的重要抓手。
AI访谈
行业分类
光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动。
AI访谈
行业特征
中国光刻机起步较晚,国产替代仍处低位。上海微电子SSX600系列光刻机可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求,可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。根据中国国际招标网数据,截至2022年9月21日,2022年光刻机中标总计23台,其中国产制造商4台,国产使用率为17.39%,皆为成熟制程。其中主要原因是光刻机进入壁垒较高、制造技术复杂度较高以及市场高度垄断。
AI访谈
发展历程

光刻机行业

目前已达到 4个阶段
AI访谈
产业链分析
AI访谈
行业规模
光刻机行业规模
暂无评级报告
AI访谈SIZE数据
政策梳理
光刻机行业
相关政策 5篇
AI访谈
竞争格局
全球光刻设备格局: ASML公司在超高端光刻机领域独占鳌头,为EUV光刻机唯一供应商,旗下产品覆盖全部级别光刻机设备。目前,全球光刻机市场主要竞争公司为ASML,尼康(Nikon)和佳能(Canon)三家,从光刻机销售额来看,2019年合计市场份额占全球光刻机市场90%以上。从企业角度,Canon主要光刻机销售集中在i-line光刻机;Nikon光刻机销售则纵向跨度较大,在除EUV之外的类型均有涉及,其中以Arf和i-line光刻机领域较为突出;ASML,则在除i-line光刻机之外领域均具有较强的主导地位。尼康公司在光刻机行业发展呈现持续下滑态势,但凭借多年技术积累位居二线供应商地位;佳能公司只能屈居三线;上海微电子装备(SMEE)作为后起之秀,在前道光刻机领域暂时只提供低端光刻机。
AI访谈数据图表
摘要
光刻机是芯片制造的主要设备之一,它的作用是将掩膜板上的芯片电路转移到硅片,是IC制造最为核心环节。具体来说,光刻胶在特殊波长光线或者电子束发生化学变化,通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程,将设计在掩膜板上的图形转移到衬底上的图形精细加工技术。光刻机性能决定了晶体管的尺寸,晶体管的尺寸对于芯片的性能具有重大意义。
光刻机行业定义
申请引用

申请引用

AI专家访谈专家访谈
Prompt
光刻机是半导体制造过程中最为重要的设备之一,其主要作用是将芯片图形图案转移到半导体晶圆上,形成电路元件。在行业中,光刻机的定义有以下几种: 1. 按曝光方式分类:包括接触式光刻机和非接触式光刻机。接触式光刻机是指掩模与晶圆直接接触的光刻机,而非接触式光刻机则是利用光学系统在掩模与晶圆之间产生一定的距离,通过光学透镜投射芯片图形。 2. 按光源类型分类:包括紫外光刻机和电子束光刻机。紫外光刻机是指利用紫外线照射晶圆进行曝光的设备,而电子束光刻机则是利用电子束照射晶圆进行曝光的设备。 3. 按分辨率分类:包括传统光刻机和纳米光刻机。传统光刻机的分辨率在几个微米到几十个纳米之间,而纳米光刻机的分辨率可以达到几个纳米甚至更小。 这些定义之间的区别和差异主要在于光刻机的工作原理和应用范围。不同类型的光刻机适用于不同的芯片制造工艺和要求,具有不同的分辨率、加工速度和成本等特点。因此,在选择光刻机时,需要根据具体的生产需求和技术要求来确定最适合的类型和规格。
开通头豹会员
光刻机(lithography)又称掩模对准曝光机,其原理类似照片冲印技术,将掩膜版上已设计完备的集成电路图形通过光线的曝光印制到感光材料(硅片),从而使感光材料具有电子线路图的作用,根据波长不同光刻机分为DUV与EUV。光刻机的制造集合了精密光学、精密仪器、高分子物理与化学、机械自动化软件、高精度环境控控制和流体力学等多项高精尖技术,因此光刻机设备生产是我国当下政策大力扶持产业,以此作为解决我国高端芯片产业被“卡脖子”的问题的重要抓手。
[1]
1:电子发烧友、头豹研究院
2:https://bbs.elecfans.com/jishu_1984861_1_1.html
光刻机行业分类
申请引用

申请引用

AI专家访谈专家访谈
Prompt
光刻机可以根据其使用技术、应用领域、生产工艺等方面进行分类。其中,最主流的分类标准是根据使用技术进行分类。按照使用技术可将光刻机分为传统光刻机和近场光刻机。 传统光刻机是指使用紫外线或电子束作为光源,通过控制光线的位置和强度,将图形投射到光刻胶层上并进行曝光。该技术已经被广泛应用于半导体、平板显示、MEMS等行业。传统光刻机的主要特点是曝光精度高、生产效率高、成本低廉、适用于大规模生产。但是,由于其分辨率有限,只适用于制造相对简单的器件。 近场光刻机是指利用近场光学原理将图形直接写入光刻胶层,从而达到更高的分辨率和精度。该技术适用于制造高分辨率、高精度的微型器件。近场光刻机分为光刻式和非接触式两种。其中,光刻式近场光刻机使用类似传统光刻的曝光技术,但是光线的聚焦和控制更加精细,可以达到更高的分辨率。非接触式近场光刻机则使用电子束或离子束对光刻胶层进行直接烧蚀,以实现更高分辨率的图形写入。近场光刻机的主要特点是分辨率高、精度高、适用于制造微型器件。但是,由于其制造效率低,成本高,只适用于小批量、高价值的生产。 在实际生产中,传统光刻机和近场光刻机通常会结合使用,以达到最佳的生产效率和成本效益。同时,随着技术的不断发展,近场光刻技术的研究和应用也在不断拓展,未来将有更多的近场光刻机被应用于各种微型器件的制造中。
开通头豹会员
光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动。
光刻机分类
手动光刻机
手动光刻机指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度不高。
半自动光刻机
半自动光刻机指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。
自动光刻机
自动光刻机指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
[2]
1:中经智盛市场研究、头豹研究院
中经智盛市场研究、头豹研究院
2:https://mp.weixin.qq.com/s/b3Q4BqJoDrSiHJ_ngECIwA
光刻机行业特征
申请引用

申请引用

AI专家访谈专家访谈
Prompt
中国光刻机行业特征分析 商业模式 光刻机行业的商业模式主要是以制造商、代理商、维修商和客户为主的供应链模式。其中,制造商主要负责光刻机的研发、生产和销售,代理商则负责销售和售后服务,维修商则负责光刻机的维修和保养,客户则是光刻机的最终用户。该模式的特点是上下游紧密合作,共同发展,缺点是利润空间较小。数据来源:2021年《中国光刻机市场发展报告》。 竞争环境 中国光刻机行业竞争环境激烈,主要竞争对手为国内外知名光刻机制造商。国内光刻机制造商主要以低端市场为主,价格较低,但技术水平相对较低;国外光刻机制造商则以高端市场为主,技术水平较高,但价格相对较高。此外,行业内还存在一些小型光刻机制造商,主要以生产中小型光刻机为主,具有一定的价格优势和市场占有率。数据来源:2021年《中国光刻机市场发展报告》。 利润成本 光刻机行业的利润空间较小,主要是由于制造成本、人力成本和研发成本较高。其中,制造成本主要是指光刻机的零部件、原材料和加工成本,占总成本的比例较大;人力成本主要是指制造商的研发、生产和售后服务的人员成本,占总成本的比例较高;研发成本主要是指制造商的技术研发和创新成本,占总成本的比例较高。另外,市场竞争激烈,价格战也会对利润空间造成一定的影响。数据来源:2021年《中国光刻机市场发展报告》。 结论 综上所述,中国光刻机行业以供应链模式为主,竞争环境激烈,利润空间较小。其中,制造成本、人力成本和研发成本是影响利润空间的主要因素。未来,随着技术的不断创新和市场的不断扩大,中国光刻机行业将有望实现更好的发展。数据来源:2021年《中国光刻机市场发展报告》。
开通头豹会员
中国光刻机起步较晚,国产替代仍处低位。上海微电子SSX600系列光刻机可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求,可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。根据中国国际招标网数据,截至2022年9月21日,2022年光刻机中标总计23台,其中国产制造商4台,国产使用率为17.39%,皆为成熟制程。其中主要原因是光刻机进入壁垒较高、制造技术复杂度较高以及市场高度垄断
1
进入壁垒较高
产业技术更新周期短,需研发资金持续投入,壁垒较高
光刻机是光刻工艺的核心设备,也是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备,包含上万个零部件,集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域等多项顶尖技术。
2
市场集中度较高
高度垄断市场,ASML系EUV唯一供应商
光刻机市场CR3为90%,其中ASML占79.4%,Nikon、Canon市场占有率分别为10.4%和10.2%。根据ASML2022年Q2数据,其极紫外线光刻机(EUV)共售出12台,环比增长9台;其EUV订单量积压已超过100台,预计明年EUV产能将超过60台。
3
制造技术复杂度高
高端光刻机制造技术复杂度高,光学镜头和光源设备是核心元器件
光学元器件制造难点有两个地方,一是曝光能力,二是镀膜能力。曝光镜头对于,膜系设计要求非常高,首先需要用仿真软件设计结构,实现特定的光学效果。特殊设计的掩膜需要用到高端镀膜材料、高精度镀膜设备和高超的镀膜工艺才能够生产出。
[3]
1:中国国际招标网、上海微电子官网、头豹研究院
中国国际招标网、上海微电子官网、头豹研究院
2:http://chinabidding.mofcom.gov.cn/channel/business/bulletinList.shtml
[4]
1:电子发烧友、ASML官网、中国国际招标网、远瞻智库、头豹研究院
电子发烧友、ASML官网、中国国际招标网、远瞻智库、头豹研究院
2:http://t.10jqka.com.cn/pid_236780216.shtml
3:https://baijiahao.baidu.com/s?id=1699729256647215353&wfr=spider&for=pc
“光刻机已关联2篇产业链
头豹知识共创平台

为各行业权威专家提供知识付费平台

为客户提供专业领域的解答服务

找专家解答
成为认证专家
1
行业定义
2
行业分类
3
行业特征
4
发展历程
5
产业链分析
6
行业规模
7
政策梳理
8
竞争格局
9
企业分析
正在加载...
1
2
3
4
5
6
7
8
9
成为会员,您可以查阅以下资料
尊享VIP会员
企业VIP会员
光刻机发展历程
光刻机行业规模
光刻机产业链分析
光刻机政策梳理
光刻机企业分析
光刻机竞争格局
产业链阅读权益
购买尊享VIP会员
免费阅读
剩余0次
光刻机发展历程
光刻机行业规模
光刻机产业链分析
光刻机政策梳理
光刻机企业分析
光刻机竞争格局
词条SIZE下载权益
产业链阅读权益
购买企业VIP会员
免费阅读
剩余次
提示信息

头豹的程序员小GG强烈建议您使用谷歌浏览器(chrome)以获得最佳用户体验。