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溅射靶材
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行业定义
在溅射过程中,被高速度能的离子束流轰击的固体称为溅射靶材。溅射靶材主要由靶坯和背板(或背管)构成,靶坯是溅射靶材中的核心部分,是溅射镀膜过程中高速粒子束流轰击的目标材料,靶坯被离子撞击后,表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板表面形成薄膜;背板主要起到固定支撑靶材的作用,由于溅射靶材需安装在专用的溅射镀膜设备内完成溅射过程,设备内部为高电压、高真空环境,多数靶坯的材质较软、脆性高、导电导热性较差,不适合直接安装在设备内使用,因此,靶坯需与背板绑定,且背板需要具备良好的导电、导热性能。作为各类薄膜工业化制备的关键材料,溅射靶材广泛应用于平面显示、半导体集成电路、新能源电池和太阳能电池、消费电子、光伏、工业控制、汽车电子等领域。
AI访谈
行业分类
溅射靶材按形状分类可分为平面靶和旋转靶;按化学成分可分为金属或非金属单质靶材、合金靶材和陶瓷化合物靶材。
AI访谈
行业特征
从认证周期看,由于溅射靶材下游客户对溅射靶材的性能、质量等审查严格且时间较长,通常在6个月至2年不等,认证周期较长。从产品设计角度看,溅射靶材下游应用领域广泛,各领域要求不同,需要定制化设计研发。从生产技术上看,溅射靶材生产制造涉及多门专业学科,融合多个专业领域的技术,生产工艺流程复杂,工序环节众多,行业技术壁垒较高。
AI访谈
发展历程

溅射靶材行业

目前已达到 3个阶段
AI访谈
产业链分析
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行业规模
溅射靶材行业规模
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政策梳理
溅射靶材行业
相关政策 5篇
AI访谈
竞争格局
中国溅射靶材市场主要由外资企业主导,中国企业中从专利数目来看,江丰电子处于第一梯队,先导薄膜、隆华科技、新疆众和处于第二梯队,映日科技、阿石创、康达新材、有研新材、欧莱新材、超卓航科处于第三梯队。
AI访谈数据图表
摘要
溅射靶材主要由靶坯和背板(或背管)构成,靶坯是溅射靶材中的核心部分,背板主要起到固定支撑靶材的作用,作为各类薄膜工业化制备的关键材料,溅射靶材广泛应用于平面显示、半导体集成电路、太阳能电池等领域。溅射靶材生产制造涉及多门专业学科,融合多个专业领域的技术,生产工艺流程复杂,工序环节众多,由于溅射靶材加工生产技术难度较高,外资企业凭借技术、产能、品牌等优势占据了中国高性能溅射靶材市场大部分的市场份额,受益于国家战略支持和下游应用推广,中国溅射靶材企业经过数年的科技攻关,已逐渐突破关键技术门槛,成功开发出一批能适应高端应用领域的溅射靶材,拥有了部分产品的规模化生产能力。近年来,随着中国平面显示和半导体集成电路产业迅速发展,下游产业逐步向国内转移,推动了中国溅射靶材行业的快速发展,中国溅射靶材市场规模由2018年的207亿元增长至2022年的305.4亿元,未来随着新型显示技术的不断突破和平面显示终端应用的持续拓展,以及太阳能电池的大幅应用及推广,预计中国溅射靶材市场将保持持续增长,2027年市场规模有望达580.6亿元。
溅射靶材行业定义
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Prompt
溅射靶材是制备薄膜材料的关键材料之一,广泛应用于电子、光学、磁性材料等领域。在溅射技术中,靶材表面被高能粒子轰击后,释放出靶材物质,沉积在基板上形成薄膜。 常见的溅射靶材定义有以下几种: 1. 溅射靶材是一种在溅射过程中受到离子轰击而释放原子或分子的材料。这种定义侧重于靶材在溅射过程中的作用,强调靶材的物理特性和应用环境。 2. 溅射靶材是用于溅射薄膜的一种材料,通常是金属或化合物。这种定义侧重于靶材的功能和使用范围,涵盖了溅射靶材的基本属性。 3. 溅
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在溅射过程中,被高速度能的离子束流轰击的固体称为溅射靶材。溅射靶材主要由靶坯和背板(或背管)构成,靶坯是溅射靶材中的核心部分,是溅射镀膜过程中高速粒子束流轰击的目标材料,靶坯被离子撞击后,表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板表面形成薄膜;背板主要起到固定支撑靶材的作用,由于溅射靶材需安装在专用的溅射镀膜设备内完成溅射过程,设备内部为高电压、高真空环境,多数靶坯的材质较软、脆性高、导电导热性较差,不适合直接安装在设备内使用,因此,靶坯需与背板绑定,且背板需要具备良好的导电、导热性能。作为各类薄膜工业化制备的关键材料,溅射靶材广泛应用于平面显示、半导体集成电路、新能源电池和太阳能电池、消费电子、光伏、工业控制、汽车电子等领域。
[1]
1:欧莱新材公告、映日科技公告
欧莱新材公告、映日科技公告
溅射靶材行业分类
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目前,最主流的溅射靶材行业分类标准是按照靶材材料的化学成分进行分类。常见的分类包括金属靶材、化合物靶材和合金靶材。 1. 金属靶材 金属靶材是指以单一金属元素为主要构成成分的靶材,如铜、铝、钛、铁、锌、镉、银、金、铂等。金属靶材具有良好的导电性、导热性和耐腐蚀性等特点,广泛应用于电子、光伏、显示等行业。其中,铜靶材和铝靶材是应用最为广泛的两类金属靶材。铜靶材在制备导电性薄膜方面应用广泛,铝靶材则主要应用于制备微电子器件。 2. 化合物靶材 化合物靶材是由不同金属元
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溅射靶材按形状分类可分为平面靶和旋转靶;按化学成分可分为金属或非金属单质靶材、合金靶材和陶瓷化合物靶材。
按形状分类
溅射靶材分类
平面靶
平面靶指具有一定厚度的长靶、方靶、圆靶等,由靶坯和背板绑定而成,在溅射过程中,靶坯与基板平行相对,背板下方放置磁铁,在靶坯与基板之间形成电磁场。
旋转靶
旋转靶即管状溅射靶材,管靶内放置磁铁,向基板方向形成电磁场。
按化学成分分类
溅射靶材分类
金属或非金属单质靶材
金属或非金属单质靶材是由同种金属或非金属元素组成的具有较高纯度及特定微观结构的靶材,例如,铜靶、铝靶、钼靶、钛靶、硅靶,石墨靶、硼靶等,是制备电极布线膜、阻挡膜、粘合膜及反射膜等的重要原材料。
合金靶材
合金靶材是由两种或两种以上金属或非金属合成的具有一定金属特性的靶材,例如,钛铝靶、镍铬靶、钼铌靶等,合金靶材具有优于单质靶材的某些特异性质,能够满足新型功能膜系的设计开发需求。
陶瓷化合物靶材
陶瓷化合物靶材是由一种或几种氧化物经高温烧结而成的具有陶瓷结构和特性的靶材,例如,ITO靶(Indium Tin Oxide,氧化铟锡)、IZO靶(Indium Zinc Oxide,氧化铟锌)等,陶瓷化合物靶材具有高强度、高熔点、化学稳定性好、耐腐蚀等优点,但塑性变形能力差,易发生脆性破坏,大尺寸靶材制备难度较大。
[2]
1:欧莱新材公告
溅射靶材行业特征
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中国溅射靶材行业是一种高技术含量的新兴产业。随着半导体、电子等行业的发展,中国溅射靶材行业也取得了长足的进步。从商业模式、竞争环境、用户画像、利润成本、行业周期、供给需求、准入门槛、发展前景等多个维度中,我们选择了商业模式、竞争环境和准入门槛这三个维度对中国溅射靶材行业进行分析。 一、商业模式 目前溅射靶材行业的主要商业模式为B2B模式。企业直接面向客户,提供定制化服务和产品。多数企业采用订单生产、按需生产的模式。企业实现盈利的方式包括产品销售、技术服务、产品租赁等。其中,产品销售是主要的盈利来源。由于溅射靶材的特殊性质,各生
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从认证周期看,由于溅射靶材下游客户对溅射靶材的性能、质量等审查严格且时间较长,通常在6个月至2年不等,认证周期较长。从产品设计角度看,溅射靶材下游应用领域广泛,各领域要求不同,需要定制化设计研发。从生产技术上看,溅射靶材生产制造涉及多门专业学科,融合多个专业领域的技术,生产工艺流程复杂,工序环节众多,行业技术壁垒较高。
1
产品认证周期较长
溅射靶材目标客户对溅射靶材的性能、质量等审查严格且时间较长,通常在6个月至2年不等,产品认证周期较长。
溅射靶材是各类薄膜工业化制备的关键材料,溅射靶材的质量对终端产品品质有重要影响,溅射靶材目标客户对溅射靶材有严格的筛选和认证标准,溅射靶材认证过程主要包括供应商初步评价、供应商技术能力评价、首套产品试制、样品检测、小批量试用、稳定性检测等多轮环节,通过认证后还需通过定期考核,认证周期通常在6个月至2年不等,以平面显示行业为例,在客户一条世代线上完成溅射靶材的认证,通常至少需要2-3年的时间,认证周期较长。
2
定制化设计研发
溅射靶材下游应用领域广泛,各领域要求不同,需要定制化设计研发。
溅射靶材下游应用领域广泛,不同领域应用场景也不同,而且溅射靶材种类繁多,不同类型溅射靶材的材料特性差异较大,例如,在半导体领域中,需要高纯度或超高纯度的金属靶材,而在光学涂层中,则可能需要特定的合金或化合物靶材,因此,在加工生产过程中需要根据下游客户需求进行定制化工艺设计,调整工艺参数、成分配方等,以满足不同领域客户的需求。
3
技术壁垒较高
溅射靶材生产制造涉及多门专业学科,融合多个专业领域的技术,生产工艺流程复杂,工序环节众多,行业技术壁垒较高。
溅射靶材生产制造涉及电子光学、工程学、材料学、物理学、化学等多门专业学科,融合了微观结构控制、靶材结构设计、金属粉末制备、高精度成型、机加工、绑定焊接、清洗包装等多个专业技术领域,技术综合性强,复杂程度高,研发难度大。溅射靶材生产工艺流程复杂,工序环节众多,包括工艺设计,塑性变形,热处理,控制晶粒、晶向等关键指标,焊接,机械加工,清洗干燥等,各生产环节相互影响,每一个生产工序均会影响最终产品品质,生产过程中必须对各环节工序进行严格的控制,以确保产品品质和性能的稳定性,行业技术壁垒较高。
[3]
1:欧莱新材公告,映日科技公告
欧莱新材公告,映日科技公告
“溅射靶材已关联2篇产业链
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行业定义
2
行业分类
3
行业特征
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发展历程
5
产业链分析
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行业规模
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政策梳理
8
竞争格局
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