掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。

光刻成像的承载介质，其作用是利用光化学反应的原理将光刻系统中经过衍射、滤波后的光信息转化为化学能量，进而完成掩模图形的复制。

是利用光化学反应的原理将光刻系统中经过衍射、滤波后的光信息转化为化学能量，进而完成掩模图形的复制。

微电子技术中微细图形加工的关键材料之一。

也称光阻剂，是通过紫外线、电子束等光照辐射，溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。分为正性胶和负性胶两类，光照后形成不可溶物质就是负性胶，反之，光照后形成可溶物质就是正性胶，被广泛用于集成电路和分立器件的微型图案加工。