在溅射过程中，高速度能的离子束流轰击的目标材料，是沉积薄膜的原材料。

，在溅射过程中，高速度能的离子束流轰击的目标材料，是沉积薄膜的原材料。

用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜的材料。

用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜的材料。